超薄膜附著強(qiáng)度測(cè)試儀

點(diǎn)擊看大圖

如果您對(duì)該產(chǎn)品感興趣的話,可以

產(chǎn)品名稱(chēng): 超薄膜附著強(qiáng)度測(cè)試儀

產(chǎn)品型號(hào): CSR-2000

產(chǎn)品展商: 其它品牌

產(chǎn)品文檔:

	薄膜の機(jī)械的性の*適化と光學(xué)薄膜材料
	利用劃痕法試驗(yàn)機(jī)評(píng)價(jià)薄膜密著性的方法

簡(jiǎn)單介紹

基于JIS R-3255標(biāo)準(zhǔn)，以MICRO SCRATCH法評(píng)價(jià)光學(xué)薄膜、半導(dǎo)體擴(kuò)散工程、表面改質(zhì)以及記憶媒體等各種用途的薄膜與基材，或薄膜與界面之間的密著力（附著強(qiáng)度）的超薄膜附著強(qiáng)度測(cè)試儀。為成膜研究與測(cè)試所必備的測(cè)試設(shè)備。

超薄膜附著強(qiáng)度測(cè)試儀 的詳細(xì)介紹

超薄膜附著強(qiáng)度測(cè)試儀

基于JIS R-3255標(biāo)準(zhǔn)，以MICRO SCRATCH法評(píng)價(jià)光學(xué)薄膜、半導(dǎo)體擴(kuò)散工程、表面改質(zhì)以及記憶媒體等各種用途的薄膜與基材，或薄膜與界面之間的密著力（附著強(qiáng)度）的超薄膜附著強(qiáng)度測(cè)試儀。

超薄膜附著強(qiáng)度測(cè)試儀的概要及特點(diǎn)

超薄膜附著強(qiáng)度測(cè)試儀的概要

原子化（分子化）的膜材料到達(dá)基材表面成型時(shí)，與基材表面的原子的結(jié)合數(shù)會(huì)直接影響到膜的密著強(qiáng)度。這個(gè)結(jié)合數(shù)，受分子的能量狀態(tài)、基板的清洗狀態(tài)等的影響。在與成膜有關(guān)的研究開(kāi)發(fā)機(jī)工程管理中，可使用本設(shè)備進(jìn)行密著強(qiáng)度的評(píng)價(jià)。

以往的劃痕測(cè)試儀，摩擦膜表面造成破壞點(diǎn)時(shí)，依靠摩擦力的變化及音響信號(hào)等來(lái)評(píng)價(jià)密著強(qiáng)度。但是，膜厚在微米級(jí)以下的薄膜的破壞點(diǎn)很難檢測(cè)出來(lái)。為解決這個(gè)問(wèn)題，采用高感度的能夠檢測(cè)出薄膜破壞的MICRO SCRATCH法，測(cè)試納米級(jí)別的薄膜的附著強(qiáng)度。*適合評(píng)價(jià)液晶顯示屏的透明電極膜、光學(xué)薄膜、DLC、磁盤(pán)的保護(hù)膜等的附著強(qiáng)度。

超薄膜附著強(qiáng)度測(cè)試儀的特點(diǎn)